Nano-Tec iridiumbeschichtete Silizium Wafer und Glass Objektträger
Nano-Tec iridiumbeschichtete Silizium Wafer und Glass Objektträger
Iridiumbeschichtete Silizium Wafer und Mikroskop-Objektträger
Einleitung
Die iridiumbeschichteten Substrate sind als Ø 4"/100mm Silizium-Wafer und als Mikroskop-Objektträger erhältlich, beschichtet mit 100nm reinem Iridium (99,9%). Iridium wird aufgrund seiner Korrosionsbeständigkeit häufig als Schutzbeschichtung unter extremen Bedingungen verwendet und weist unter den Metallen die höchste Korrosionsbeständigkeit in geschmolzenen Oxiden auf. Es weist einen hohen Schmelzpunkt, eine geringe Sauerstoffdurchlässigkeit, eine hohe chemische Stabilität und eine hervorragende Oxidationsbeständigkeit auf. Iridium ist auch ein vielversprechender Kandidat für die Wasserstofferzeugung. Weitere Anwendungen sind die Nanotechnologie und die Dünnschichtforschung. Zwischen dem Substrat und der Ir-Beschichtung wird eine Haftschicht aus Titan verwendet. Sowohl die Ti- als auch die Ir-Beschichtung werden in einer speziellen Hochvakuum-Beschichtungsanlage mit einer Elektronenstrahlquelle abgeschieden. Die Iridiumbeschichtung ist nicht atomar flach; es gibt Höhenunterschiede im nm-Bereich. Zum Schutz werden die Wafer in Wafer-Transportboxen und die Objektträger in Objektträgerschachtel verpackt.
Spezifikationen der Nano-Tec iridiumbeschichteten Silizium Wafer und Objektträger:
Iridium Beschichtung |
100 nm Ir (99,9% Reinheit) |
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Titanium Adhäsionsfilm |
5 nm Ti (99,99% Reinheit) |
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Oberflächerauheit |
Einige nm |
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Substrate |
Silizium Wafer |
Mikroskop-Objektträger |
Substrat- Größe |
Ø 4” / 100 mm |
75 x 25 mm |
Substrat-Dicke |
525 µm (+/- 20 µm |
1 mm |
Substrat-Material |
P (Boron) - <100> - 1-30 Ohm/cm |
Borofloat 33 – Borosilikat Glas |
Bestellinformationen zu Nano-Tec iridiumbeschichtete Silizium Wafer und Objektträger
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