Nano-Tec aluminiumbeschichte Silizium- und Glas-Substrate
Nano-Tec aluminiumbeschichte Silizium- und Glas-Substrate
Aluminiumbeschichtete Silizium-Wafer & -Chips oder Objektträger & Deckgläschen aus Borosilikatglas
Einleitung
Die aluminiumbeschichteten Substrate sind als 4"/100mm-Siliziumwafer, 10 x 10 mm-Si-Chips, Objektträger und 22 x 22 x 0,2 mm-Deckgläser erhältlich, die mit 100nm reinem Aluminium (99,999%) beschichtet sind. Sie sind nützlich für Dünnschichtforschung, Experimente, Mikroelektronik, Optik, Telekommunikation, Nanotechnologie und Biotechnologie. Aluminiumbeschichtungen weisen eine hohe Leitfähigkeit, einen hohen Reflexionsgrad und eine starke Haftung auf. Die Aluminiumbeschichtung wird in einer speziellen Hochvakuum-Beschichtungsanlage mit einer Elektronenstrahlquelle abgeschieden. Die Aluminiumbeschichtung ist nicht atomar flach; es gibt Höhenunterschiede im nm-Bereich. Zum Schutz werden die Wafer in Wafer-Transportschalen, die Objektträger in Objektträger-Versandtaschen und die Si-Chips und Deckgläser in Gel-Pak-Boxen verpackt.
Spezifikationen der der Nano-Tec aluminumbeschichteten Substrate:
Aluminiumbeschichtung |
100 nm |
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Adhäsionfilm |
kein |
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Oberflächerauheit |
einige nm |
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Substrat |
Silizium wafer |
Si Chips |
Objektträger |
Deckgläschen |
Größe |
Ø 4” / 100 mm |
10 x 10 mm |
75x25 mm |
22x22 mm |
Dicke |
525 µm (+/- 20 µm |
1mm |
0.2mm |
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Art |
P (Boron) - <100> - 1-30 Ohm/cm |
Borofloat 33 – borosilicate glass |
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Bestellinformationen zu zu Nano-Tec aluminiumbeschichtete Substrates
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